主要用途：大中專院校、實(shí)驗(yàn)室、科研院所、工礦企業(yè)做高溫?zé)Y(jié)、氣氛還原、CVD反應(yīng)實(shí)驗(yàn)、真空退火及金屬封裝、石墨烯等新材料、新工藝領(lǐng)域用的理想產(chǎn)品。
　　主要特點(diǎn)：具有溫場均勻、表面溫升低、升溫速率高、節(jié)能等特點(diǎn)，模塊化設(shè)計(jì)，產(chǎn)品系列齊全。
　　使用溫度：600℃-1200℃。
　　常用氣氛：真空、氮?dú)狻?br/>　　功能選件：耐爐內(nèi)檢測系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、保護(hù)氣氛系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)集成控制系統(tǒng)、溫度曲線記錄打印、氣氛檢測分析系統(tǒng)、設(shè)備凈化應(yīng)用。